中文名称：硅片参考面结晶学取向X射线测试方法

英文名称：Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques

标准号：GB/T 13388-2009

标准类型CN

发布日期：2009-10-30

实施日期：2010-6-1

摘要：硅片的参考面结晶学取向（晶向）是一个重要的材料验收参数。在半导体器件工艺中，一般利用参考面来校准半导体器件的几何图形阵列与结晶学晶面及晶向的一致性。

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