中文名称：重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

英文名称：Test method for measuring Boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry

标准号：GB/T 24580-2009

标准类型CN

发布日期：2009-10-30

实施日期：2010-6-1

摘要：本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法（SIMS）对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污（总量）的测试。

>> 更多信息及订购