中文名称：硅片弯曲度测试方法

英文名称：Test methods for bow of silicon wafers

标准号：GB/T 6619-2009

标准类型CN

发布日期：2009-10-30

实施日期：2010-6-1

摘要：本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片(以下简称硅片)弯曲度的接触式测量方法。 本标准适用于测量直径不小于25mm，厚度为不小于180μm,直径和厚度比值不大于250的圆形硅片的弯曲度。本测试方法的目的是用于来料验收和过程控制。本标准也适用于测量其它半导体圆片弯曲度。

>> 更多信息及订购